首页 产业板块 电子半导体 光刻胶 混配系统
混配系统
混配系统

用途:半导体行业(电子化学品如光刻胶、研磨液、显影液等混配)

设备结构:开盖式或带人孔封闭式,内部抛光要求可选EP、喷涂/内衬高纯PFA、PTFE,可选配夹套及保温

换热:若设置有外夹套,外夹套通冷热媒可实现物料控温,控温精度±1℃

搅拌:喷涂或内衬混配釜采用机械搅拌,内部 EP混配釜可选用底部磁力搅拌、顶部磁力搅拌或顶部机械搅拌

集成后可实现功能:自动加料、自动计量,自动搅拌、自动控温,自动控压、自动出料,在线监测等功能

设备材质:根据电子化学品等级要求(G1、G2、G3、G4、G5),可选择316L EP、304内衬PTFE/喷涂ETFE、304内衬/喷涂PFA

容积可定制:50L~30000L

管口连接方式:接管法兰式、凸缘法兰式、卡式

特种设备需求:Ⅰ类、Ⅱ类

适用工况:固液、液液混合,温度0~150℃,压力-0.1~1.0MPa


设备特点:

内衬/喷涂PFA的设备,总金杂析出增量可达到<10ppt等级

内衬/喷涂后通过复杂严格的清洗流程,以及洁净包装措施保证了设备的洁净等级

配置PTFE清洗喷淋球,保证了所有接液部分均得到清洗溶剂润湿冲洗,减少了物料残留,防止影响下批物料的配比

底部采用罐底阀,确保搅拌无死角

搅拌机封定制化设计制造,保证了整个设备工作时无金属接液

搅拌器经过CFD流场模拟,桨叶选型更有针对性


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